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真空管鍍膜的原理是什么?

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提問者:蘇彩萱| 營口| 1392次瀏覽
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已有6條回答

回答數:59829 | 被采納數:500

真空鍍膜原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差工效低光澤差?,F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。


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回答數:138025 | 被采納數:217

真空鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發落在工件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體分子會產生阻力造成碰撞使結晶體變得粗糙無光,所以必須在高真空下才能使結晶體細密光亮,果如真空度不高結晶體就會失去光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體自然散射,結合差工效低光澤差?,F在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。
目前真空管膜層普遍采用鋁氮復合膜,整個膜層分內、中、外三層,各有其作用,內層為反射層,主要作用是阻止管中熱水的熱量向外輻射;中層為吸收層,主要作用是吸收光能,并轉化成熱能;外層為減反層,主要作用是減少陽光的反射,增加陽光的吸收率。


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淺筱筱文
回答數:1896 | 被采納數:3

一種由物理方法產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術最先用于生產光學鏡片,如航海望遠鏡鏡片等。后延伸到其他功能薄膜,唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。如手表外殼鍍仿金色,機械刀具鍍膜,改變加工紅硬性。
在真空中制備膜層,包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。
真空鍍膜技術初現于20世紀30年代,四五十年代開始出現工業應用,工業化大規模生產開始于20世紀80年代,在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環境下,將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料),屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜,故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中,以塑料最為常見,其次,為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料,塑料具有來源充足、性能易于調控、加工方便等優勢,因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料,大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷,如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜,即可賦予塑料程亮的金屬外觀,合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能,大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。
真空鍍膜的功能是多方面的,這也決定了其應用場合非常豐富??傮w來說,真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果,在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能,提供優異的電磁屏蔽和導電效果。
真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜,從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優于固體材料本身的優越性能,達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。因此真空鍍膜技術被譽為最具發展前途的重要技術之一,并已在高技術產業化的發展中展現出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術已在國民經濟各個領域得到應用,如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環保、軍事等領域。
真空蒸發鍍膜設備主要用于在經予處理的塑料、陶瓷等制品表面蒸鍍金屬薄膜(鍍鋁、鉻、錫、不銹鋼等金屬)、七彩薄仿金膜等,從而獲得光亮、美觀、;價廉的塑料,陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于汽車、摩托車燈具、工藝美術、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機、鬧鐘、女式鞋后跟等領域。


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小土豆的眼睛
回答數:4662 | 被采納數:2

真空管鍍膜的原理是:真空管膜層普遍采用鋁氮復合膜,整個膜層分內、中、外三層,各有其作用,內層為反射層,主要作用是阻止管中熱水的熱量向外輻射;中層為吸收層,主要作用是吸收光能,并轉化成熱能;外層為減反層,主要作用是減少陽光的反射,增加陽光的吸收率。


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沒在這片海
回答數:21899 | 被采納數:10

通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面,稱為蒸發鍍膜。這種方法最早由M.法拉第于1857年提出,現代已成為常用鍍膜技術之一。蒸發鍍膜設備結構如圖1。 蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源,待鍍工件,如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽至高真空后,加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間(或決定于裝料量),并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜,常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。


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[昵稱被屏蔽]
回答數:1043 | 被采納數:2

真空管鍍膜的原理是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區域內,該區域內等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,最終沉積在基片上。?磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子的能量。


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