A)將基材薄膜置于導(dǎo)電膠水中上漿后烘干,得到導(dǎo)電薄膜,所述基材薄膜選自網(wǎng)孔膜或網(wǎng)格布,所述基材薄膜的厚度小于20μm;B)采用真空鍍膜,在所述導(dǎo)電薄膜表面依次鍍金屬膜以及金屬保護(hù)膜,得到柔性屏蔽材料。本發(fā)明采用厚度小于20μm的網(wǎng)孔膜或網(wǎng)格布作為制備柔性屏蔽材料的基材,同時(shí)結(jié)合真空鍍膜工藝制備得到的柔性屏蔽材料厚度小于20μm,并且具有較高的強(qiáng)度和較低的表面電阻。另外,本發(fā)明提供的制備方法無需進(jìn)行水電鍍,能有效避免對(duì)水體的污染。